HVOFプロセス
(高速溶射)
Thermal spraying

クロームメッキに代わる技術として注目
信頼性の高い皮膜が形成可能

『HVOFプロセス(高速溶射)』は、高い燃焼圧力により、高流速ガスフレームを発生させます。
その中に金属およびサーメット粉末材料を送り込み、それらを高速で基材に撃ち当て、皮膜を形成します。
当プロセスはクリーンで安全、しかも安定した信頼性の高い皮膜が形成でき、最近の環境問題と関連してクロームメッキに代わる技術として注目されています。

特長

  • 緻密な皮膜を形成可能
  • 鏡面研削で優れた面粗さに仕上がる
  • 硬度が高く耐摩耗性に優れた皮膜が形成可能
  • 熱による溶射材料の組成変化や皮膜内の酸化物含有量が低い
  • ワークとの密着力の強い皮膜ができる

加工手順Thermal spraying

主に新規作成から行ないます。
製品によっては再生も可能ですが、再溶融中全体が1000度以上になり歪みが発生しますので、部品全体の加工しろを残して溶射します。

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01素材

02アンダーカット

溶射部分を要求される厚さだけ切削します。

03溶射

必要材料を溶融噴射します。
この時の素材温度は150度以下です。

04仕上げ

特殊グラインダー仕上げを行ないます。

膜厚 ~0.3mmt

材料

種類 製法 化学組成 硬さ
(Hv(0.3))
W C Co Ni Cr Fe
WC-12Co 造粒一焼結 Bal. 5.3 12.0 <0.5 - <0.5 >1100
WC-12Co 焼結一粉砕 Bal. 4.3 12.0 <0.5 - <1.0 >1100
WC-17Co 造粒一焼結 Bal. 5.3 17.0 <0.5 - <0.5 >1100
WC-10Co-4Cr 造粒一焼結 Bal. 5.2 10.0 <1.0 4.5 <0.5 >1050
WC-12Ni 造粒一焼結 Bal. 5.3 <0.5 12.0 - <0.5 >1100
WC-20CrC-7Ni 造粒一焼結 Bal. 6.0 - 7.0 20.0 <0.5 >1000
WC-20CrC-7Ni 焼結一粉砕 Bal. 5.4 - 7.0 20.0 <1.0 >1000
Cr3C2-25NiCr 造粒一焼結 - 9.5 - 20.0 Bal. <0.5 >800
Cr3C2-25NiCr 混合 - 9.6 - 20.0 Bal. <1.0 >700

他の溶射技術Thermal spraying

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